EV-420 mask-aligner - Manuale utente.



INIZIO:

  • accendere pompe, aprire rubinetti azoto, vuoto e aria compressa (gli ultimi due sotto il tavolo di sinistra)
  • si comincia con PC off, tutto off, solo generale main on
  • alimentatore lamp: power on (ancora non parte la lampada)
  • premere start (circa 2s)
  • accendere elettronica con chiavetta
  • accendere il PC
  • viti micrometriche del maskholder: all'inizio mettere a meta' corsa, ovvero settare a 5 (intera corsa ±5mm, indicatore da 0 a 10)

TRAY:

  • sul tray si tiene montato il portawafer (GIVCHUCK 3")
  • per montare la maschera, sopra si poggia il mask-frame (specie di inforna-pizza, senza vuoto) Label: 4" maskframe loading; poggiare con il manico a destra
  • per il montaggio del wafer, si poggia direttamente il wafer sul portawafer

MOVIMENTI:

  • ¬ ®asse X
  • ­ ¯ asse Y se led off, asse Z (fuoco) se led on

ESPOSIZIONE BOTTOM:

  • Primo aggiustamento: microscopio vs maschera
    • regolare le viti micrometriche a 5 (meta' corsa)
    • montare il portawafer e sopra il tray per la maschera con la maschera sopra
    • selezionare se top o bottom: MENU/ CHANGE/ SIDE|LG/ BOTTOM
    • selezionare modalita' MENU/ PARAMETER / EXPOSURE tipo (flood o normal) e time
    • si aggiustano i due campi del microscopio (L e R) con le frecce per le coordinate X e Y
    • in X gli obiettivi si muovono indipendentemente, in Y insieme
    • il fuoco si aggiusta selezionando Z da Z/Y (led acceso) e con le frecce
    • segnare i valori delle coordinate e del fuoco
    • continue: attacca la maschera

  • Seconda fase (seguire le istruzioni sul monitor)
    • maschera attaccata
    • tray in senza wafer
    • alla domanda: Bottom adj. or F1, Continue per vuoto su wafer bisogna scegliere F1 (non fa vuoto sul wafer ma permette di aggiustare il fuoco del microscopio)
    • aggiustare il fuoco sui marker della maschera in questa posizione (ridurre Z)
    • settare i crosshair
  • Terza fase
    • maschera attaccata
    • mettere un wafer di prova, con un pattern qualsiasi ma fitto,a faccia in giu'
    • alla domanda: Bottom adj. or F1, Continue per vuoto su wafer bisogna scegliere F1 (non fa vuoto sul wafer ma permette di aggiustare il fuoco del microscopio)
    • attenzione: se si sceglie il vuoto sul wafer, si arriva all'esposizione senza poter aggiustare MIC.
    • aggiustare il fuoco sul pattern del wafer (bisogna diminuire Z)
    • toccare solo il fuoco ma non i campi del microscopio L e R
       
  • Quarta fase
    • maschera attaccata
    • wafer "buono"
    • questa volta, dare CONTINUE per fissare il wafer e seguire le istruzioni
    • usando le viti micrometriche, cercare i marker sul wafer e allinearli ai crosshair

VARIE:

  • SEP/CONT manda in contatto, ma anche CONTINUE
  • variazione parametri dell'esposizione: menu-parameter-exposure…..
  • unload maschera: dopo esposizione, "load another wafer" , invece di YES ® RESET

TIPI DI ESPOSIZIONE

  • normal: allineamento
    flood
  • Campo microscopio: 300 mm ?

SPEGNIMENTO

  • spegnere il PC: ESC, dal desktop chiusura di windows.
  • park position? YES
  • spegnere power della lampada e riaccendere per abilitare il flusso di azoto, lasciare 5 min